[Ben Krasnow] hackerato insieme un metodo di pulizia dei lati usando il plasma. La sua configurazione utilizza una pompa sottovuoto meccanica per evacuare un barattolo di campana. Questo barattolo di campana è avvolto con una bobina di rame, che è collegata a un trasmettitore RF. Trasmettendo RF nella bobina, il plasma viene creato all’interno del barattolo della campana.

La pulizia del plasma è ampiamente utilizzata nel settore dei semiconduttori. A seconda del gas utilizzato, può avere effetti di pulizia diversi. Ad esempio, un ambiente ricco di ossigeno è molto efficace per abbattere i legami organici e la rimozione di idrocarburi. Viene utilizzato dopo la pulizia manuale per garantire che tutte le impurità nei solventi utilizzate per la pulizia siano completamente rimosse. Secondo [Ben], è possibile ottenere una superficie atomicamente pulita usando questo processo e persino rimuovere il substrato se i livelli di energia sono troppo alti.

Queste macchine sono tipicamente costose e specializzate, ma [Ben] è riuscita a cucinarne uno sulla sua panchina. Dopo la pausa, dai un’occhiata a una passeggiata video attraverso il pulitore del plasma [Ben]